Advanced Photonics又又叒拿一稿，濱松SLM助力突破光學衍射極限
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繼Science又拿一稿，濱松SLM參與飛秒激光極端制造新突破之后，濱松空間光調制器（SLM）又一次成為浙江大學、之江實驗室超分辨雙光子聚合系統光場調控的核心器件。
最近，浙江大學、之江實驗室劉旭教授和匡翠方教授團隊基于前期遠場超分辨技術的研究經驗，提出了一種新型的雙通道激光納米直寫方法。該方法突破了光學衍射極限，提高了激光直寫“打印”的精度和速度。
研究成果以“Direct laser writing breaking diffraction barrier based on two-focus parallel peripheral-photoinhibition lithography”為題發表在Advanced Photonics 上。
采用激光直寫打印比特點結構在大數據光存儲方面具有極大的應用潛力。圖4展示了雙通道系統在打印比特點圖案上的能力，其中，（a）圖是打印結果的掃描電子顯微鏡圖，（b）、（c）圖分別是（a）中黃色和藍色方框的放大圖，比特點的水平和垂直間距為200 nm，比例尺為1 μm。(a)圖中的上半部分采用邊緣光抑制打印，點結構間隙清晰可辨；相比之下，采用傳統雙光子打印的下半部分，點結構十分模糊。正常的單光束路徑系統中，這兩行必須單獨打?。欢陔p通道系統中，兩個圖案可同時打印，可見該方法的效率是普通單光路系統的兩倍。
為了測試實際3D納米結構的并行打印效果，研究人員還打印了超材料結構立方體。打印結果如圖5所示。
劉旭教授和匡翠方教授團隊在使用過濱松的SLM后表示：
系統中采用的兩款濱松SLM分別用于實現對780 nm脈沖激發光和532 nm連續抑制光的調控。濱松SLM在超分辨雙光子聚合系統作為光場調控的核心器件表現不俗，具有諸多優勢功能：
具備完備的二次開發包及例程，方便科研人員完成自定義功能和應用程序開發；?
高效率：采用介質反射膜，95%光利用率，充分利用激光能量；?
低吸收、高損傷閾值：可使用較高功率激光以實現多路并行操作，即使在無水冷情況下也具備高功率適應性和穩定性；
精密準確的位相調節和位相穩定性：滿足十納米量級超分辨雙光子聚合對光斑、對準、指向性的精密控制和穩定運行的要求；
外形設計簡潔、緊湊，使用方便，易于集成。
圖7 論文原文：濱松SLM可進行多焦點并行加工
濱松早在1980年就已經開始了空間光調制器的研發歷程。本著探索人類未知未涉的精神，一代一代產品的更新換代，一代一代技術的推陳出新，到今年已經走過了42個年頭。
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