Photonic Professional GT2：微納加工的革新者

在微納加工的世界里，Nanoscribe的Photonic Professional GT2猶如一顆璀璨的明星，以其卓越的性能和無與倫比的精度，引領著科學研究和快速成型的潮流。這款三維微納加工設備，不僅集成了多種微加工模組，更是科學研究和快速成型的多用途設備，為快速手板制作和超精密微加工提供了精度最高的3D無掩模光刻解決方案。

1.關鍵特性

     1.1專用于科學研究和快速成型：Photonic Professional GT2專為科研和快速成型設計，裝配有galvo振鏡模組，實現了高速三維超精密加工。

     1.2亞微米特征尺寸的設計自由度：在亞微米特征尺寸上，該設備實現了完全的三維設計自由度，為微流道、微機械、生物醫學工程等領域提供了無限可能。

     1.3直接使用CAD生成的STL格式三維模型進行加工：簡化了無掩模光刻工作流程，使得加工過程更加直觀和高效。

2.廣泛的印刷材料-基材選擇：為多尺度和多領域的三維微加工量身定制解決方案，支持廣泛的材料和基板選擇。

3.技術參數

     3.1無掩模光刻技術：采用逐層雙光子光固化技術，實現了三維最小橫向特征尺度可達160 nm，二維橫向分辨率400 nm，最佳縱向分辨率1,000 nm。

     3.2最大加工體積：最大加工體積達到100 x 100 x 8 mm3，為大尺寸微納結構的加工提供了可能。

     3.3最佳平面粗糙度Ra：最佳平面粗糙度Ra≤20 nm，保證了加工表面的高精度和平滑度。

4.應用領域

Photonic Professional GT2的多功能性在多個領域中協助完成了關鍵性創新，包括機械超材料、光學超材料、自由曲面光學元件、可操控的微馬達和具有生物兼容性的細胞支架等。這些成果不僅在同行評審的期刊出版物中得到廣泛認可，也成為突破性研究的例證。

 5.為什么選擇Nanoscribe

作為技術先驅和市場領導者，Nanoscribe是您在高精度無掩模光刻領域的可靠伙伴。我們的客戶包括全球頂尖大學和高科技企業，如哈佛大學、加州理工大學、華為技術有限公司、美國蘋果公司等。我們提供便捷的解決方案，將用戶的靈感和想法變為實物，幫助他們實現突破性的創新。

 6.客戶支持與技術服務

我們的多語種技術服務團隊為您提供全方位的客戶支持，包括裝機調試、定時維護和故障修理、使用培訓課程、在線知識庫NanoGuide、電話、電子郵件和遠程支持等。我們致力于提供超越基礎應用的技術支持，以及延長保養和保修選項，提供升級和搬遷服務。

選擇Nanoscribe的Photonic Professional GT2，讓我們一起開啟微納加工的新篇章，探索科學的無限可能。

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